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隔振光学平台隔振处理频率高于气垫隔振平台
发布时间：2019-12-14 | 发布人:admin | 浏览次数:
武汉聚光生产的隔振光学平台它的隔振基础部分可根据具体要求, 在聚光的产品三个系列中选用不同型号的隔振基础. 其中气垫系列隔振处理后1.5-3Hz, 阻尼系列隔振处理后频率4-6Hz。
调节支撑部分: 采用耐磨丝杆和平面推力球轴承, 使用时轻松可靠。
自动平衡系统: 采用空气伺服系统, 自动调整水平. 它的突出特点是把系统对微振的响应反馈到系统中, 改变隔振特性, 提高隔振效果, 在超载偏重的实验条件下, 瞬间达到初始的平衡状态。
光学平台使用时注意事项：
1、 不能用酸性液体清洗本产品,以免破坏产品表面质量。
2、 不能将本产品放置在高温、潮湿及高强度振源处。
3、 不能用水冲洗本产品。
4、 本产品长时间处于一种状态下,请用水平仪调整台面水平。
5、 工作台面上搁置的任何设备或工具,都必须小心轻放,尽量不要相对磨擦,以避免损伤工作台面,降低使用精度。
6、 工作台面安装孔,是用于固定设备的M6螺孔,使用时避免用力过大,影响工作台精度。
